El implante coclear es ampliamente utilizado por personas con año auditivo profundo. Este dispositivo se compone de un conjunto de electrodos que estimulan eléctricamente los nervios auditivos. Cuando el electrodo es insertado quirúrgicamente en el oído interno, la escala timpani es maltratada debido a las considerables presiones aplicadas a las estructuras internas del oído. Esto ocasiona trauma, lo cual es indeseado. y es principalmente causado por el contacto del electrodo con las paredes de la cóclea. Para minimizar este trauma, se propone fabricar un MEMS sensor de presión para que sea integrado al conjunto de electrodos; permitiendo medir la presión aplicada al oído. Este trabajo ha seleccionado el SU8 MEMS sensor de presión basado en el efecto de interferencia óptica. Este artículo describe el proceso de fabricación del sensor y como se puede integrar al array de electrodos.The Cochlear Implant is broadly worn by people with deep hearing damage. This device makes up an electrode array to electrically stimulate the auditory nerves. When the electrode is implanted into the inner ear by surgery, the scala tympani is ill-treated due to the strong pressure applied on the internal ear structures. To minimize this intra-cochlear trauma, it is proposed to fabricate a micro pressure-sensor and built it in the electrode array, in such a way that the pressure applied by the electrode is measured. This work selected the MEMS SU-8 Fabry-Perot interferometer-based pressure sensor. This paper describes the sensor fabrication process carried out, and explains how to integrate this sensor with the electrode array.